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玻璃與金屬封接過程中氣孔率和玻璃飛濺

羅大為 沈卓身

羅大為, 沈卓身. 玻璃與金屬封接過程中氣孔率和玻璃飛濺[J]. 工程科學學報, 2011, 33(7): 856-862. doi: 10.13374/j.issn1001-053x.2011.07.013
引用本文: 羅大為, 沈卓身. 玻璃與金屬封接過程中氣孔率和玻璃飛濺[J]. 工程科學學報, 2011, 33(7): 856-862. doi: 10.13374/j.issn1001-053x.2011.07.013
LUO Da-wei, SHEN Zhuo-shen. Porosity and glass sputtering in the sealing process of glass to metal[J]. Chinese Journal of Engineering, 2011, 33(7): 856-862. doi: 10.13374/j.issn1001-053x.2011.07.013
Citation: LUO Da-wei, SHEN Zhuo-shen. Porosity and glass sputtering in the sealing process of glass to metal[J]. Chinese Journal of Engineering, 2011, 33(7): 856-862. doi: 10.13374/j.issn1001-053x.2011.07.013

玻璃與金屬封接過程中氣孔率和玻璃飛濺

doi: 10.13374/j.issn1001-053x.2011.07.013
基金項目: 

深圳市科技局資助項目(No.JC201006020768A)

詳細信息
    通訊作者:

    羅大為,E-mail:luodw2006@gmail.com

  • 中圖分類號: TG441

Porosity and glass sputtering in the sealing process of glass to metal

  • 摘要: 通過測量不同工藝條件下玻璃絕緣子中的氣孔率和最大氣泡直徑,以及觀察底盤表面的玻璃飛濺情況,研究了熔封氣氛、熔封溫度、熔封時間、氧化膜類型和厚度對玻璃絕緣子中氣孔率和玻璃飛濺的影響.結果表明,玻璃絕緣子中氣孔率與可伐合金底盤表面的飛濺程度有一定的關系.可伐合金表面Fe3O4氧化物與玻璃中SiO2發生化學反應是玻璃絕緣子中氣泡的一個重要來源,也是引起玻璃飛濺的因素.熔封氣氛和氧化膜厚度對氣孔率和玻璃飛濺影響最大.推薦的工藝條件是在可伐合金表面生成厚度約1μm的FeO氧化膜,然后與玻坯在950~980℃工廠條件的氣氛中熔封30~40 min.

     

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出版歷程
  • 收稿日期:  2010-07-09
  • 網絡出版日期:  2021-07-30

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