大面積CVD金剛石膜的熱鐵板拋光

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大面積CVD金剛石膜的熱鐵板拋光

劉敬明, 蔣政, 張恒大, 呂反修, 唐偉忠

文章導航 > 工程科學學報 > 2001 > 23(1): 42-44

劉敬明, 蔣政, 張恒大, 呂反修, 唐偉忠. 大面積CVD金剛石膜的熱鐵板拋光[J]. 工程科學學報, 2001, 23(1): 42-44. doi: 10.13374/j.issn1001-053x.2001.01.038

引用本文:

劉敬明, 蔣政, 張恒大, 呂反修, 唐偉忠. 大面積CVD金剛石膜的熱鐵板拋光[J]. 工程科學學報, 2001, 23(1): 42-44. doi: 10.13374/j.issn1001-053x.2001.01.038

LIU Jingming, JIANG Zheng, ZHANG Hengda, LV Fanxiu, TANG Weizhong. Thermo-Chemical Polishing of Large Area CVD Diamond Films[J]. Chinese Journal of Engineering, 2001, 23(1): 42-44. doi: 10.13374/j.issn1001-053x.2001.01.038

Citation:

LIU Jingming, JIANG Zheng, ZHANG Hengda, LV Fanxiu, TANG Weizhong. Thermo-Chemical Polishing of Large Area CVD Diamond Films[J]. Chinese Journal of Engineering, 2001, 23(1): 42-44. doi: 10.13374/j.issn1001-053x.2001.01.038

劉敬明, 蔣政, 張恒大, 呂反修, 唐偉忠. 大面積CVD金剛石膜的熱鐵板拋光[J]. 工程科學學報, 2001, 23(1): 42-44. doi: 10.13374/j.issn1001-053x.2001.01.038

引用本文:

劉敬明, 蔣政, 張恒大, 呂反修, 唐偉忠. 大面積CVD金剛石膜的熱鐵板拋光[J]. 工程科學學報, 2001, 23(1): 42-44. doi: 10.13374/j.issn1001-053x.2001.01.038

LIU Jingming, JIANG Zheng, ZHANG Hengda, LV Fanxiu, TANG Weizhong. Thermo-Chemical Polishing of Large Area CVD Diamond Films[J]. Chinese Journal of Engineering, 2001, 23(1): 42-44. doi: 10.13374/j.issn1001-053x.2001.01.038

Citation:

LIU Jingming, JIANG Zheng, ZHANG Hengda, LV Fanxiu, TANG Weizhong. Thermo-Chemical Polishing of Large Area CVD Diamond Films[J]. Chinese Journal of Engineering, 2001, 23(1): 42-44. doi: 10.13374/j.issn1001-053x.2001.01.038

大面積CVD金剛石膜的熱鐵板拋光

doi: 10.13374/j.issn1001-053x.2001.01.038

北京科技大學材料科學與工程學院, 北京 100083

基金項目:

國家"863"計劃資助重大項目（NO.863-715-Z38-03）

作者簡介:
劉敬明男,30歲,博士

中圖分類號: TB43
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- 被引次數: 0
出版歷程
- 收稿日期: 2000-08-28

Thermo-Chemical Polishing of Large Area CVD Diamond Films

Material Science and Engineering School, UST Beijing, Beijing 100083, China

摘要: 研制成功國內第1臺大面積CVD金剛石膜熱鐵板拋光機.它可以在10^-3Pa真空條件下,加熱到1 100℃;拋光臺可以在0~10 r/min間實現無級調速,一次完成3片φ110 mm的金剛石膜的拋光.金剛石膜在980℃,2 h拋光的結果表明該裝置有良好的拋光效果.金剛石膜在980℃拋光不同時間的Raman譜表明,金剛石熱鐵板拋光是金剛石石墨化和C原子不斷擴散的過程.
- CVD金剛石膜 /
- 熱鐵板拋光 /
- 石墨 /
- 擴散
Abstract: The first domestic thermo-chemical polishing apparatus is setup. Three φl10 mm in diameter diamond films can be polished simultaneously at 10^-3Pa from 750℃ to 100℃, with the polishing rate increasing with increasing temperature. The results of polishing at 980℃ showed that polishing of CVD diamond films is very efficient. Thermo-chemical polishing mechanism is based on the transformation of diamond into graphite and the atomic dissolution of carbon into a hot metal.
- CVD diamond films /
- thermo-chemical polishing /
- graphite /
- diffusion

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